Объемная стационарная плазма малой плотности и ее использование для получения электронных и ионных пучков большого сечения

Тип работы:
Диссертация
Предмет:
ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Страниц:
228


Узнать стоимость

Детальная информация о работе

Выдержка из работы

Одним из фундаментальных свойств плазмы является ее способность испускать при определенных условиях электроны или ионы за пределы плазменного образования [1,2]. Это позволяет использовать плазму в качестве эмитирующей среды при получении электронных и ионных пучков различного назначения. Плазменные эмиттеры могут иметь некоторые преимущества перед термокатодами в источниках электронов [3,4], а в ионных источниках [5−8] плазменные эмиттеры являются практически единственно приемлемыми.

Актуальность исследования эмиссионных свойств плазмы обусловлена тем, что в настоящее время электронные и ионные пучки являются эффективным рабочим инструментом промышленного производства, причем области их применения в различных отраслях непрерывно расширяются. Недаром элек-тронно-ионно-плазменные технологии включены в Перечень критических технологий федерального уровня. Кроме того, электронные и ионные пучки широко используются в самых разнообразных областях научных исследований.

В большинстве известных плазменных источников электронов [3,4,9,10] и ионов [5−11] с эмиттером большой площади используется плазма с плотностью не ниже Ю10 см-3. Эмиссионная способность плазмы с плотностью Ю10 см-3 сол ставляет для электронов несколько десятков мА/см, а для ионов — на два порядка меньше. Однако для ряда технологических операций, связанных с обработкой в вакууме различных объектов стационарными электронами и ионными пучками большого сечения требуются пучки с меньшей плотностью тока: плотность электронного тока до 10 мА/см и плотность ионного тока до нел скольких десятков мкА/см. Такие ионные пучки используются в пленочной технологии для управления электрофизическими характеристиками тонкопленочных резисторов, для ионной стимуляции в процессе образования тонких пленок на поверхности твердых тел, а также для безрезистовой ионной литографии. Электронные пучки с указанной плотностью тока используются для отжига полупроводниковых пластин большого диаметра, пайки и термообработки деталей в вакууме, спекания изделий из металлических порошков. Превышение указанных значений приводит в некоторых случаях [12,13] к нарушению технологического процесса. Еще ниже верхний предел плотности тока электронных пучков, выводимых через фольгу из вакуумной камеры и используемых для возбуждения электроионизационных лазеров, отверждения полимерных покрытий, стерилизации пищевых продуктов и медицинских объектов. Этот предел ограничен термической стойкостью фольги и составляет в непрерывном режиме несколько сотен мкА/см2 [4].

Если для получения пучков с указанными параметрами использовать

1 л 1 эмитирующую плазму с плотностью не ниже 10 см, то для уменьшения плотности тока придется организовывать эмиссию заряженных частиц через потенциальный барьер, что приведет к существенному снижению энергетической эффективности эмиттеров. Более рациональный путь — снижение плотности эмитирующей плазмы. Однако механизмы образования объемной стационарной плазмы со сравнительной низкой плотностью, не превышающей 109 см-3, при которой обеспечиваются требуемые плотности тока эмиссии электронов и ионов, имеет свои особенности, которые не были изучены к началу выполнения настоящей работы.

Целью работы является исследование процессов генерации с помощью газового разряда объемной однородной стационарной плазмы со сравнительно низкой плотностью, а также эффективного извлечения из нее заряженных частиц, управления ее параметрами и создание на основе такой плазмы источников заряженных частиц с пучками большого сечения.

Научная новизна работы заключается в том, что впервые:

1. Получены критерии, позволяющие определять структуру и параметры отдельных частей переходной области между неравновесной плазмой и отрицательным электродом в зависимости от вида функции распределения электронного компонента плазмы по скоростям. Исследовано влияние параметров электронного распределения неравновесной плазмы на ее ионно-эмиссионные свойства.

2. На основе модели изолированного электрода, помещенного в неравновесную плазму, содержащую направленный поток электронов, проанализировано влияние параметров неравновесной плазмы и материала электрода на его потенциал. Выявлены два устойчивых состояния электрода, отличающиеся соотношениями токов частиц, поглощаемых и испускаемых электродом.

3. Исследован энергетический спектр электронов плазмы низковольтного отражательного разряда с холодным полым катодом. Оценены параметры электронного распределения при его аппроксимации в виде суммы двух максвел-ловских распределений с различными температурами.

4. Выявлены четыре режима работы эмиттера на основе инжекции заряженных частиц в специальный полый электрод (формирователь) из низковольтного отражательного разряда, отличающиеся механизмом образования заряженных частиц в формирователе.

5. Установлен механизм образования и роль плазмы в формирователе в режиме электронного потока. Определены условия реализации этого режима при низких давлениях газа.

6. Предложена модель процессов в формирователе, позволяющая проанализировать распределение потенциала и объяснить влияние ускоряющего электрического поля на параметры плазмы в нем. Реализовано состояние положительно заряженного электронного пучка.

7. Исследованы свойства электронного эмиттера большой площади на основе высоковольтного отражательного разряда с выходом заряженных частиц вдоль магнитного поля.

Практическая ценность работы состоит в том, что:

1. Показана возможность обнаружения и исследования направленных потоков заряженных частиц в плазме с помощью двойного изолированного зонда.

2. Предложены методы управления распределением плотности тока по поверхности эмиттера и током эмиссии в эмиттерах на основе инжекции заряженных частиц в формирователь из низковольтного отражательного разряда.

3. Показана возможность создания ленточных эмиттеров на основе высоковольтного отражательного разряда со средней плотностью электронного тока л, А порядка нескольких сотен мкА/см при давлении газа ниже 10 Па.

4. Разработаны плазменные источники электронов и ионов с эмиттерами большой площади на основе инжекции заряженных частиц в формирователь из низковольтного отражательного разряда. Показана перспективность использования этих источников в различных технологических операциях.

На защиту выносятся:

1. Критерии образования слоя положительного объемного заряда и вторичной плазмы, позволяющие определять структуру и параметры отдельных частей переходной области между неравновесной плазмой и отрицательным электродом. Расчетные и экспериментальные результаты, показывающие, что увеличение доли высокоэнергетичных электронов при сохранении концентрации плазмы приводит к росту плотности тока эмиссии ионов из неравновесной плазмы.

2. Модель изолированного электрода, помещенного в неравновесную плазму, содержащую направленный поток электронов. Расчетные и экспериментальные результаты, показывающие, что изолированный электрод в этих условиях находится в одном из двух устойчивых состояний, отличающихся соотношениями токов частиц, поглощаемых и испускаемых электродом. В первом состоянии потенциал электрода существенно ниже потенциала плазмы и эта разность по мере роста энергии потока растет. Во втором состоянии потенциал электрода близок к потенциалу плазмы. Это состояние реализуется только для электрода с коэффициентом вторичной эмиссии, превышающим единицу. Электрод в первом состоянии может использоваться для частичного рассеяния инжектируемого в плазму потока электронов и обеспечения тем самым однородности эмиссии электронов в эмиттерах большой площади, а во втором состоянии — для прямого измерения потенциала плазмы.

3. Обоснование и экспериментальное подтверждение возможности обнаружения и исследования направленных потоков заряженных частиц в плазме с помощью двойного изолированного зонда. Показано, что по направлению и величине тока, протекающего между электродами зонда по внешней цепи, при различных его положениях в исследуемой плазме определяется знак частиц, составляющих поток, его направление и расходимость, а также распределение плотности тока по сечению пучка в плазме.

4. Установленные четыре режима работы эмиттера на основе инжекции заряженных частиц в формирователь из низковольтного отражательного разряда, отличающиеся механизмом образования заряженных частиц: режим потока ионов, ускоренных в слое пространственного заряда вблизи катода-отражателя- режим проникновения плазмы в формирователь из отражательного разряда- режим потока электронов, ускоренных в слое пространственного заряда, положение которого зависит от геометрии и потенциала формирователя- режим создания плазмы в формирователе объемным разрядом, инициируемым отражательным разрядом.

5. Механизмы образования плазмы в формирователе в режиме электронного потока. При малых внешних ускоряющих напряжениях основным механизмом образования электронного компонента плазмы является вторичная эмиссия с внутренней поверхности эмиссионного электрода при бомбардировке его высокоэнергетичными электронами. При больших внешних ускоряющих напряжениях, когда доля быстрых электронов, перехватываемых эмиссионным электродом, пренебрежимо мала, основным механизмом образования электронного и ионного компонентов плазмы является ионизация газа в формирователе потоком электронов.

6. Расчетные и экспериментальные результаты, показывающие, что в режиме электронного потока основную долю тока эмиссии составляют электроны потока, а роль плазмы состоит в компенсации отрицательного объемного заряда электронного потока объемным зарядом ионов. При создании внешнего ускоряющего электрического поля возможна существенная перекомпенсация объемного заряда электронного потока ионами, т. е. возможна реализация состояния положительно заряженного электронного пучка.

7. Методы управления распределением плотности тока по поверхности эмиттера путем изменения формы слоя пространственного заряда вблизи катода-отражателя, а также за счет использования электронного потока в формирователе для усиления вторичной эмиссии с периферийных участков эмиттера. Методы управления током эмиссии за счет изменения потенциала эмиссионного электрода и за счет изменения потенциала катода-отражателя, позволяющие сохранять однородность эмисси при изменении тока эмиссии.

8. Результаты экспериментального исследования объемных разрядов в различных разрядных структурах и при различных схемах инжекции электронов, позволяющие сделать вывод, что: а) наибольшую эффективность эмиссии ионов обеспечивает объемный отражательный разряд- б) наиболее однородная эмитирующая плазма создается в объемном разряде с радиальной инжекцией электронов и осевым магнитным полем- в) для формирования ленточных пучков наиболее приемлем объемный разряд с клинообразным полым катодом.

9. Результаты исследования высоковольтного отражательного разряда, позволившие показать, что такой разряд в режиме & laquo-виртуального катода& raquo- на оси, отделенного слоем плазмы от электронной оболочки у анода, с выходом заряженных частиц вдоль магнитного поля может использоваться в качестве ленточного эмиттера электронов, обеспечивающего плотности тока порядка нескольких сотен мкА/см при давлении ниже 10 Па. Ионно-электронная эмиссия с внешней поверхности эмиссионного электрода может существенно повышать эффективность и однородность эмиссии.

10. Впервые разработанные плазменные источники электронов и ионов с эмиттерами большой площади на основе инжекции заряженных частиц в формирователь из низковольтного отражательного разряда и положительный опыт эффективного использования этих источников в различных технологических операциях. Электронные пушки с пучком диаметром до 150 мм, током до 0,5 А, энергией электронов до 15кэВ и неравномерностью распределения плотности тока по сечению пучка ± 6% использовались для отжига полупроводников, пайки и термообработки деталей в вакууме, спекания изделий из металлических порошков. Ионный источник с пучком диаметром до 100 мм и плотностью тока несколько десятков мкА/см использовался для управления электрофизическими характеристиками тонкопленочных резисторов, а ионный источник с пучком диаметром 200 мм, током до 30 мА, энергией ионов до 50 кэВ, неравномерностью распределения плотности тока по сечению пучка не более ± 10% - для упрочняющей обработки металлических поверхностей и ионной безрези-стовой литографии.

Выводы

1. Предпочтительным для работы электронного эмиттера на основе высоковольтного отражательного разряда с выходом электронов вдоль магнитного поля является режим & laquo-виртуального катода& raquo- на оси, отделенного слоем плазмы от электронной оболочки у анода, обеспечивающий наибольшую из всех рассмотренных режимов эффективность эмиссии ~ 40−50% из-за появления электронов с аномально большой энергией. В этом режиме наблюдается и наибольшая однородность эмиссии.

167

2. Сохранение одного поперечного размера разрядной ячейки и существенное увеличение другого размера позволяет создавать ленточные эмиттеры со средней плотностью электронного тока порядка несколько сотен мкА/см2 при давлении ниже 10 2 Па и неоднородностью распределения плотности тока эмиссии не более + 10−15%. Для эмиттера, состоящего из нескольких параллельных разрядных ячеек, характерна существенная неоднородность эмиссии.

3. За счет ионно-электронной эмиссии с внешней поверхности эмиссионного электрода при бомбардировке его ионами, выходящими из разряда и отраженными ускоряющим электроны полем, можно существенно увеличить ток эмиссии и, соответственно, энергетическую эффективность эмиттера. Кроме того, ионно-электронная эмиссия позволяет повысить однородность распределения плотности тока по сечению пучка в источниках электронов с эмиттерами такого типа.

ПоказатьСвернуть

Содержание

1. Анализ методов создания объемной плазмы и ее эмиссионных свойств.

1.1. Плазменные эмиттеры на основе объемных разрядов.

1.2. Плазменные эмиттеры на основе инжекции заряженных частиц из вспомогательного разряда с плотной плазмой.

1.3. Выводы и постановка задачи.

2. Некоторые особенности неравновесной плазмы.

2.1. Переходная область между неравновесной плазмой и отрицательным электродом.

2.1.1. Модель переходной области.

2.1.2. Критерии образования слоя положительного объемного заряда и их анализ.

2.1.3. Распределение плотности заряда в слое.

2.1.4. Критерии образования вторичной плазмы. Структура переходной области.

2.2. Эмиссия ионов из неравновесной плазмы.

2.3. Изолированный электрод в плазме, содержащей направленный поток электронов.

2.4. Использование двойного изолированного зонда для исследования направленных потоков заряженных частиц в плазме.

3. Проникновение плазмы из отражательного разряда в полый электрод.

3.1. Техника и методика эксперимента.

3.2. Параметры плазмы отражательного разряда.

3.3. Проникновение плазмы в формирователь при различных его потенциалах и давлениях газа.

4. Создание объемной плазмы потоком электронов и ее эмиссионные свойства.

4.1. Механизм образования и свойства объемной плазмы в формирователе.

4.2. Анализ распределения потенциала пространства в формирователе

4.2.1. Потенциал коллектора фс = 0.

4.2.2. Потенциал коллектора (рс > 0. Положительно заряженный электронный пучок.

4.3. Управление распределением плотности тока по поверхности плазменного эмиттера.

4.4. Управление током эмиссии.

5. Создание эмитирующей плазмы объемными разрядами, инициируемыми и поддерживаемыми вспомогательными разрядами.

5.1. Генерация эмитирующей плазмы объемными разрядами в формирователе.

5.2. Исследование объемного отражательного разряда.

5 3. Инициирование объемного разряда с клинообразным полым катодом.

6. Эмиссионные свойства высоковольтного отражательного разряда.

6.1. Задачи и техника эксперимента.

6.2. Эмиссия заряженных частиц из высоковольтного отражательного разряда.

6.3. Ионно-электронная эмиссия с внешней поверхности эмиссионного электрода.

7. Плазменные источники заряженных частиц непрерывного действия с эмиттерами большой площади.

7.1. Электронные пушки непрерывного действия с плазменным катодом большой площади

7.2. Ионные источники с пучками большого сечения.

7.3. Применение разработанных источников заряженных частиц.

Список литературы

1. Электронные пушки непрерывного действия с плазменным катодом большой площади

2. Один из вариантов электронной пушки, формирующей ленточный пучок, представлен на рис. 7.5. Схема электродов пушки показана на рис. 5.5. ПушкаЛобеспечивает электронный пучок с поперечными размерами 60×3 мм, током до

3. Рис. 7.4. Внешний вид пушки, генерирующей пучок с поперечным сечением 100×100 мм2, в сборе (а) и после неполной разборки (б).

4. Ионные источники с пучками большого сечения

5. Катод-отражатель змиссионныиэлектрод

6. Рис. 7.6. Осевые распределения потенциала в формирователе ионного эмиттера. Id 0,2 А- рабочий газ — воздух, р = 2-Ю& quot-2 Па. U2, В: 1 — 0- 2 — 425- 3 — 525- 4−625.1. Z00 3000 S0Q Щ& amp-5Q. £-, мЯ

7. Рис. 7. 13. Распределение плотности тока по сечению пучка на расстоянии 150 мм от ионного источника. рабочего газа, напускаемого в разрядную камеру. Это в конечном итоге приводит к нарушению электрической прочности ускоряющего промежутка источника.

8. Применение разработанных источников заряженных частиц

9. На данной установке были проведены эксперименты по спеканию заготовок из порошка вольфрама марки ПВТ (диаметр заготовок 30 мм и высота 60

10. Рис. 7. 15. Установка ЭЛУ-901 для пайки и термообработки деталей в вакууме.

11. Рис. 7. 17. Схема экспериментальной установки: 1 вакуумная камера- 2 — разрядная камера- 3 — формирователь- 4 — эмиссионный электрод- 5 — ускоряющий электрод- 6 — образец- 7 — поворотный стол.

12. На базе электронной пушки с пучком диаметром 100 мм была разработана установка для термической обработки полупроводниковых пластин диаметром до 100 мм 163,169.

13. Разработанная пушка использовалась также для отжига слоев селенида цинка, имплантированных ионами V группы 164.. 73.4. Использование ионного источника с пучком большого сечения впленочной технологии

14. Некоторая модификация пушки, заключающаяся в перекрытии определенных участков эмиссионного электрода и введении дополнительных электродов в формирователь, позволяет получать пучки различных конфигураций.

15. Разработан ионный источник с пучком диаметром до 100 мм и энергией ионов до 10 кэВ. Работа источника в режиме проникающей плазмы в формирователе позволяет поддерживать давление в рабочей камере ~ 5103−10−2 Па.

16. Основные результаты работы сводятся к следующему.

17. Теоретически обоснована и экспериментально подтверждена возможность обнаружения и исследования направленных потоков заряженных частиц в плазме с помощью двойного изолированного зонда.

18. Арцимович Л. А. Что каждый физик должен знать о плазме. М.: Атомиздат, 1976. — 112 с.

19. Завьялов М. А., Крейндель Ю. Е., Новиков А. А., Шантурин Л. П. Плазменные процессы в технологических электронных пушках. М.: Энергоатомиздат, 1989. — 256 с.

20. Крейндель Ю. Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат, 1977. -144 с.

21. Бугаев С. П., Крейндель Ю. Е., Щанин П. М. Электронные пучки большого сечения. -М.: Энергоатомиздат, 1984. 112с.

22. Габович М. Д. Физика и техника плазменных источников ионов. М.: Энергоатомиздат, 1972. — 305с.

23. Green Т. S. Intense ion beams 11 Repts. Progr. Phys. 1974. — V. 37. -P. 1257−1344.

24. Габович М. Д., Плешивцев Н. Б., Семашко H.H. Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза и технологических целей. М.: Энергоатомиздат, 1986. — 248с.

25. Физика и технология источников ионов. / Под ред. Я. Брауна. М.: Мир, 1998. -496с.

26. Источник заряженных частиц с плазменным эмиттером / Под ред. П. М. Щанина. Екатеринбург: Наука, 1993. — 148с.

27. Тематический выпуск & laquo-Плазменная эмиссионная электроника. »- / Под ред. П. М. Щанина. Изв. вузов. Физика. — 2001. — Т. 44. — № 9. — 96с.

28. Данилин Б. С., Киреев В. Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. — 264с.

29. Гусева М. Б. Ионная стимуляция в процессах образования тонких пленок на поверхности твердого тела // Соросовский образовательный журнал. -1998. -№ 10. С. 106−112.

30. Попок В. Н., Азарко И. И., Хайбуллин Р. И. Влияние высоких доз имплантации и плотности ионного тока на свойства пленок полиимида // Журн. техн. физ. 2002. — Т. 12. — Вып.4. — С. 88−93.

31. Инжекторы быстрых атомов водорода / Н. Н. Семашко, А. Н. Владимиров, В. В. Кузнецов и др. М.: Энергоиздат, 1981. — 168с.

32. Кулыгин В. М., Панасенков А. А., Семашко Н. Н., Чухин И. А. Ионный источник без внешнего магнитного поля ИБМ-5 // Журн. техн. физ. 1979. -Т. 49. -Вып.1. — С. 168−179.

33. Стерлинг, Райан, Цай, Леунг. Плазменный источник для инжекторов нейтрального пучка // Приборы для науч. исслед. 1979. — Вып.1. — С. 117−124.

34. Элерс, Леунг. Характеристики мультипольного ионного источника // Приборы для науч. исслед. 1979. — Вып. 11. — С. 23−33.

35. Oka Y., Kuroda Т. Effect of a multipole magnetic field on characteristics of a multifilament plasma source // Appl. Phys. Lett. 1979. — V. 34. — № 2. — P. 134 136.

36. Forrester AT., Goebel D.M., Crow J.T. IBIS: A hollow cathode multipole boundary ion source // Appl. Phys. Lett. 1978. — V. 33. — № 1. — P. 11−13.

37. Langmuir I. The interaction of electron and positive ion space charges in cathode sheaths // Phys. Rev. 1929. — V. 33. — № 6. — P. 954−989.

38. Царев Б. М. Расчет и конструирование электронных ламп. М.: Энергия, 1967. — 672с.

39. Никулин С. П., Кулешов С. В. Генерация однородной плазмы в тлеющих разрядах низкого давления // Журн. техн. физ. 2000. — Т. 70. — Вып.4. -С. 18−23.

40. Гаврилов Н. В., Емлин Д. Р., Никулин С. П. Использование тлеющего разряда в магнитном поле для получения широких ионных пучков технологического применения // Изв. вузов. Физика. 2001. — Т. 44. — Вып.9. — С. 48−56.

41. Никулин С. П. Влияние эмиссии заряженных частиц на характеристики тлеющих разрядов с осциллирующими электронами // Изв. вузов. Физика. -2001 Т. 44. — Вып.9. — С. 63−68.

42. Bayless Y.R., Knechtli R.C., Mercer G.N. The plasma-cathode electrongun // IEEE J. Quant Electronics. 1974. — V. QE-10. — № 2. — P. 213−218.

43. Bayless Y.R. The plasma-cathode electron gun // Rev. Sci. Instrum. -1975. V. 46. — № 6. -P.l 158−1160.

44. Гаврилов H.B., Никулин С. П., Радковский Г. В. Источник интенсивных широких пучков ионов газов на основе разряда с полым катодом в магнитном поле // Приборы и техн. эксперим. 1996. — № 1. — С. 93−98.

45. Окамото, Тамагава. Получение сильноточных ионных пучков большой площади // Приборы для науч. исслед. 1972. — № 8. — С. 129−133.

46. Дьячков Б. А., Зарянкин Н. М., Логунов В. И., Насонов А. В. Высокочастотный источник ионов малой энергии // Приборы и Техн. эксперим. 1978. -№ 2 -С. 191−193.

47. Freisinger J., Loeb H.W., Seibt. Optimization of the multi-apperture ion extraction system in a 10-cm diameter RF-ion source // Proc. 12-th Int. Conf. Phenomena Ionezed Gas. Eindhoven, 1975. — Part 1. — P. 103.

48. Lejeune C., Grandchamp J.P., Aubert J. Multiduoplasmatron et multidu-opigatron: sources de plasma uniforme pour la formation de faisceaux dions mul-tiamperes // Rev. phys. appl. 1977. — V. 12. — № 12. — P. l835−1848.

49. Габович М. Д., Пасечник Л. Л., Лозовая E.A. Выход в вакуум плазмы с большой концентрацией заряженных частиц // Журн. техн. физ. 1961. — Т. 31. -Вып. 9,-С. 1049−1056.

50. Габович М. Д., Романюк Л. И., Лозовая Е. А. Проникновение плазмы из источника с осцилляцией электронов в вакуумную область с магнитным полем. // Журн. техн. физ. 1964. — Т. 34 — Вып.З. — С. 488−495.

51. Габович М. Д., Романюк Л. И., Лозовая Е. А. Образование квазинейтрального потока ускоренных ионов в плазме, выходящей из ионного источника // Журн. техн. физ. 1965. — Т. 35. — Вып.1. — С. 94−100.

52. Журавлев Б. И., Никитинский В. А., Захаров А. С. Источник ионов с равномерным распределением плотности тока по сечению пучка // Электронная обработка материалов. 1981. — № 4. — С. 74−76.

53. Никитинский В. А., Журавлев Б. И. Условия существования разряда схолодным катодом, контрагированнного в скрещенных полях // Журн. техн. физ. 1982. — Т. 52. — Вып.5. — С. 880−883.

54. Плазменный эмиттер: А.С. 746 769 СССР / Г. С. Казьмин, Н И. Коваль, Ю. Е. Крейндель, П. М. Щанин. Бюл. № 25. — 1980.

55. Злобина А. Ф., Казьмин Г. С., Коваль Н. Н. и др. Параметры плазмы в экспандере электронного эмиттера с дуговым контрагированным разрядом // Журн. техн. физ. 1980. — Т. 50. — Вып.6. — С. 1203−1207.

56. Казьмин Г. С., Коваль Н. Н., Крейндель Ю. Е. и др. Электронный диодный ускоритель с большим сечением пучка // Приборы и техн. эксперим. -1977. -№ 4. С. 19−20.

57. Гаврилов Н. В., Ковальчук Б. М., Крейндель Ю. Е. и др. Высоковольтный электронный источник с плазменным эмиттером для формирования пучков большого сечения // Приборы и техн. эксперим. 1981. — № 3. — С. 152−154.

58. Галанский B. JL, Крейндель Ю. Е., Оке Е. М. и др. Условия образования и параметры анодной плазмы дугового разряда низкого давления /7 Теплофизика высоких температур. 1987. — Т. 25. — № 5. — С. 880−886.

59. Иванов А. А., Рудаков Л. И. Динамика квазилинейной релаксации бес-столкновительной плазмы // Журн. эксперим. и теоретич. физ. 1966. — Т. 51. -№ 5(11). — С. 1522−1534.

60. Стерлинг, Цай, Райан. 15-см ионный источник типа дуопигатрон // Приборы для науч. исслед. 1977. — № 5. — С. 38−42.

61. Цай, Стерлинг, Райан. Исследование плазмы на ионном источнике типа дуопигатрон /7 Приборы для науч. исслед. 1977. — № 6. — С. 73−78.

62. Стерлинг, Цай, Хейселтон, Шехтер, Уилтон, Дейгенхарт, Дэвис, Гарднер, Ким, Менон, Райан. Характеристики ижектора интенсивного нейтрального пучка на 40кВ // Приборы для науч. исслед. 1979. — № 5. — С. 3−8.

63. Fiunelli M. The periplasmatron ion source I I Proc. 9-th Symp. Fusion Tech-nol. Garmisch — Partenkirchen. — Oxford, 1976. — P. 849−856.

64. Becherer R., Fumelli M., Valchx F.P.G. The rectangular periplasmatron an ion source for MW-neutral beam injection systems // Proc. 7-th Symp. Eng. Probl. Fusion Res. Knoxville Tennessee, 1977. — V.l. — P. 287−290.

65. Васильев Г. А. Магниторазрядные насосы. M.: Энергия, 1970 — 113с.

66. Белюк С. И., Крейндель Ю. Е., Ремпе Н. Г. Мощные сварочные электронные пушки с плазменным катодом // Источники электронов с плазменным эмиттером. Новосибирск, Наука, 1983. — С. 80−91.

67. Белюк С. И., Крейндель Ю. Е., Ремпе Н. Г. Исследование возможности расширения области давлений рабочего газа плазменного источника электронов //Журн. техн. физ. 1980. — Т. 50. — Вып.1. — С. 203−205.

68. Грановский В. Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. -М.: Наука, 1971. -С. 102−103.

69. Шимони К. Физическая электроника. М.: Энергия, 1977. — 460с.

70. Романюк Л. И., Свавильный Н. Е. Экспериментальное исследование функции распределения электронов по скоростям в плазме разряда Пеннинга с накаленным катодом // Укр. физ. журн. 1976. — Т. 21. — № 6. — С. 981−988.

71. Романюк Л. И., Свавильный Н. Е. Сравнительные характеристики энергетического спектра электронов в плазме разряда Пеннинга и прямого разряда // Укр. физ. журн. 1976. — Т. 21. — № 12. — С. 1978−1982.

72. Демирханов Р. А., Курсанов Ю. В., Скрипаль Л. П. Эмиссия энергичных ионов из разряда с осцилляцией электронов в неоднородном магнитном поле. // Журн. техн. физ. 1969. — Т. 39. — Вып.4. — С. 666−668.

73. Демирханов Р. А., Курсанов Ю. В., Скрипаль Л. П. Эмиссия ионов из плазменно-пучкового разряда // Журн. техн. физ. 1970. — Т. 40. — Вып.7. -С. 1351−1354.

74. Демирханов Р. А., Курсанов Ю. В., Скрипаль Л. П. Разряд низкого давления с группой высокоэнергичных электронов /7 Журн. техн. физ. 1974. -Т. 44. — Вып.7. — С. 1424−1431.

75. Волколупов Ю. А., Мартинсон А. Ж., Рыльцев П. И. Исследование плазменного эмиттера ионов // Тез. докл. XVIII Всесоюз. конф. по эмиссионной электронике. М.: Наука, 1981. — С. 262−263.

76. Чен Ф. Введение в физику плазмы. М.: Мир, 1987. — 398с.

77. Lejeune С. Extraction of high-intense ion beams from plasma sources: theoretical and experimental treatments // Appl. Charg. Part. Opt. Pt C. New-York, 1983. -P. 207−293.

78. Алексеев Б. В., Котельников В. А. Зондовый метод диагностики плазмы. М. Энергоатомиздат, 1988. — 240с.

79. Морозов И. Н., Настоящий А. Ф. Физические условия вблизи границы раздела плазмы с поверхностью /7 Теплофизика высоких температур. 1995. -Т. ЗЗ. — № 2. — С. 179−184.

80. В ohm D., Burhop Р.Н.Е., Massey H.S.M. The characteristics of electrical discharges in magnetic fields / Eds. A. Guthrie, R.K. Wakerling. Mebiaw-Hill, 1949. -P. 360−366.

81. Мартене В. Я. Влияние потоков заряженных частиц на эмиссию тепловых ионов из плазмы /7 Плазменная эмиссионная электроника. Улан-Удэ, БНЦ СО АН СССР, 1991. — С. 55−60.

82. Мартене В. Я. Слой между плазмой и отрицательным электродом при наличии потоков заряженных частиц // Журн. техн. физ. 1996. — Т. 66. — Вып.5. — С. 70−76.

83. Мартене В. Я. Переходная область между неравновесной плазмой и отрицательным электродом // Журн. техн. физ. 2002. — Т. 72. — Вып. 10 — С. 45−52.

84. Крейндель Ю. Е., Литвинов Е. А., Садовская Е. Ю. Развитие кнудсенов-ского разряда при токе, ограниченном пространственным зарядом // Журн. техн. физ. 1989. — Т. 59. — Вып. 10. — С. 47−53

85. Мартене В. Я. Эмиссия ионов из неравновесной плазмы // Изв. вузов. Физика. 2001. — Т. 44. — Вып.9. — С. 90−96.

86. Пигаров Ю. Д., Морозов П. М. Ионизация неона, аргона, гелия и водорода в импульсном разряде // Журн. техн. физ. 1961. — Т. 31. — Вып.4. — С. 476−485.

87. Мустафаев А. С., Мезенцев А. П., Симонов В. Я., Каплан В В., Марци-новский А. М. Зондовые измерения электронной функции распределения в неравновесной плазме //Журн. техн. физ. 1984. — Т. 54. -Вып. 11. — С. 2153−2157.

88. Демидов В. И., Симонов В. Я. Определение электронной концентрации из ионной части зондовых характеристик в столкновительной плазме // Тез. докл. VII Всесоюз. конф. по физике низкотемпературной плазмы. Ташкент, 1987. — 4.2. — С. 210−211.

89. Диагностика плазмы / Под ред. Р. Хаддлстоуна, С. Леонарда. М.: Мир, 1967. -С. 146.

90. Мартене В. Я., Бурачевский Ю. А., Рыжкова Н. А. Потенциал изолированного перераспределяющего электрода в плазменном эмиттере электронов большой площади // Тез. докл. IX Симп. по сильноточной электронике. Екатеринбург, 1992. — С. 34−35.

91. Мартене В. Я. Потенциал изолированного электрода в системе плазма-электронный поток // Журн. техн. физ. 1996. — Т. 66. — Вып.6. — С. 70−76.

92. Методы исследования плазмы / Под ред. В. Лохте-Хольтгревена. М.: Мир, 1971. -С. 464.

93. Левитский С. М. Сборник задач и расчетов по физической электронике. -Киев, 1964. -С. 202.

94. Козырев А. В., Шишков А. Н. Два режима теплообмена металлической макрочастицы в неравновесной плазме // Письма в Журн. техн. физ. — 2002. -Т. 28. -Вып. 12. С. 33−39.

95. Ховатсон А. М. Введение в теорию газового разряда. М.: Атомиздат, 1980. -С. 131.

96. Мартене В. Я. Использование двойного изолированного зонда для исследования потоков заряженных частиц в плазме // Журн. техн. физ. — 1998. -Т. 68. -Вып. 10. С. 121−123.

97. Крейндель Ю. Е., Мартене В. Я., Съедин В. Я. Исследование плазмыэлектронного эмиттера непрерывного действия с большой эмитирующей поверхностью // Источники электронов с плазменным эмиттером. Новосибирск, Наука, 1983,-С. 25−33.

98. Мартене В. Я. Проникновение плазмы из отражательного разряда в полый электрод при низком давлении газа // Журн. техн. физ. 2002. — Т. 72. -Вып. 11. — С. 44−51.

99. Козлов О. В. Электрический зонд в плазме. М.: Атомиздат, 1969. 292с.

100. Доброхотов Е. И., Москалев И. Н. Об измерении параметров холодной плазмы многосеточным зондом /У Журн. техн. физ. 1970. — Т. 40. — Вып.5. -С. 1048−1058.

101. Бурачевский Ю. А., Качаев В. В., Мартене В. Я. О безотказности плазменного источника заряженных частиц с пучком большого сечения // Электронная обработка материалов. 1989. — № 6. — С. 79−80.

102. Маков Б. И. Об измерении потенциала плазмы // Докл. АН СССР. -1971. Т. 198. — № 2. — С. 327−329.

103. Груздев В. А., Ремпе Н. Г. Влияние пристеночного слоя на колебание тока плазменного эмиттера // Теплофизика высоких температур. 1982. — Т. 20.- № 2. С. 225−228.

104. Смит, Гершкович, Коукли. Интерпретация характеристики эмиссионного зонда методом точки перегиба // Приборы для науч. исслед. 1979. — № 2.- С. 73&mdash-83.

105. Кемп, Селлен мл. Методика измерения потенциала с помощью эмиссионных зондов // Приборы для науч. исслед. 1966. — № 4. — С. 68−75.

106. Сапожников Г. И. Параметры плазмы в полом коллекторе // Журн. техн. физ. 1978. — Т. 48. — Вып.4. — С. 681−687.

107. Кузнецов В. В., Семашко Н. Н. Особенности течения через магнитное сопло неизотермической плазмы, полученной в пучково-плазменном разряде // Журн. техн. физ. 1972. — Т. 42. — Вып. 11. — С. 2440−2442.

108. Коваленко В. П. Электронные сгустки в нелинейном коллективномвзаимодействии пучков с плазмой // Успехи физ. наук. 1983. — Т. 139,-№ 2. -С. 223−263.

109. Левитский С. М., Шашурин И. И. Пространственное развитие плазмен-но-пучковой неустойчивости /'/ Журн. эксперим. и теоретической физ. 1967. -Т. 52. — № 2. — С. 350−356.

110. Попович В. П., Харченко И. Ф., Шустин Е. Г. Пучково-плазменный разряд без магнитного поля /7 Радиотехника и электроника. 1973. — № 3. — С. 649−651.

111. Крейндель Ю. Е., Мартене В. Я. Механизм образования и роль плазмы в формирователе эмиттера непрерывного действия с большой эмитирующей поверхностью // Тез. докл. V Всесоюз. симп. по сильноточной электронике. -Томск, 1984. 4.2. — С. 201−203.

112. Мартене В. Я. Дис. канд. физ. -мат. наук: 01. 04. 04. / Институт сильноточной электроники СО РАН. Томск, 1985. — 163с.

113. Мартене В. Я. Влияние формирователя на параметры плазмы, проникающей в него из отражательного разряда с полым катодом // Тез. докл. XXVIII науч. -техн. конф. Ставропольского госуд. техн. университета. Ставрополь, 1998. — Т.2. -С. 48.

114. Браун С. Элементарные процессы в плазме газового разряда. М.: Госатомиздат, 1961. — 324с.

115. Добрецов Л. Н., Гомоюнова М. В. Эмиссионная электроника. М.: Наука, 1966. -564 с.

116. Бронштейн И. М., Фрайман Б. С. Вторичная электронная эмиссия. -М.: Наука, 1969. -408 с.

117. Tonks L., Langmuir I. A general theory of the plasma of an arc // Phys. Rev. 1929. — V. 34. — P. 876−922

118. Грановский В. Л. Электрический ток в газе. Том 1. Общие вопросы электродинамики газов. М. — Л.: Госиздат технико-теоретической литературы, 1952. -432с.

119. Нагорных Ю. Д. Распределение потенциала и траектории ионов в цилиндрическом ионизаторе с продольным электронным пучком // Препринт Ин-стит. теоретической и прикладной механики СО АН СССР № 13. Новосибирск, 1979. — 33с.

120. Мартене В. Я. О возможности реализации положительно заряженного электронного пучка // Письма в Журн. техн физ. 1986. — Т. 12. — Вып. 13. -С. 769−772.

121. Мартене В .Я., Съедин В. Я. О режимах работы плазменного катода непрерывного действия с большой эмитирующей поверхностью // Тез. докл. XVIII Всесоюз. конф. по эмиссионной электронике. М., Наука, 1981. — С. 268−269.

122. Жаринов А. В., Власов М. А., Выборное С. И. Положительно заряженные электронные пучки //' Письма в Журн. техн. физ. 1984. — Т. 10. — Вып. 19. -С. 1185−1188.

123. Мартене В. Я., Ремпе Н. Г. Управление током плазменного электронного эмиттера непрерывного действия с большой эмитирующей поверхностью /7 Тез. докл V Всесоюз. симп. по сильноточной электронике. Томск, 1984. -4.2. — С. 195−197.

124. Груздев В. А., Крейндель Ю. Е., Мартене В. Я. Катод типа металл-плазма-металл с большой эмитирующей поверхностью // Изв. АН СССР. Сер. физич. 1979. — Т. 43. — № 9. — С. 1883−1886.

125. Будишевский B.C., Мартене В. Я., Проскуровский Д. И. Влияние изолированного перераспр. •:: па.. • • • • тера электронов большой площади // Плазменная эмиссионная электроника. -Улан-Удэ, БНЦ, 1991. С. 132−137.

126. А.С. 1 127 461 СССР / Р. Г. Каримов, В. Я. Мартене. Заявл. 4. 05. 83.6 с.

127. Клеил ер Э. Ю. Основы теории электронных ламп. М.: Высшая школа, 1974. — 368 с.

128. А.С. 1 168 004 СССР / В. Я. Мартене, Н. Г. Ремпе, B.C. Будишевский. -Заявл. 19. 12. 83. -5 с.

129. Способ управления током плазменного эмиттера большой площади: Патент 2 012 945 РФ / B.C. Будишевский, В. Я. Мартене, Н. Г. Ремпе. Заявл. 12. 07. 91. — 5 с. Опубл. 15. 05. 94. -Бюл. № 9. — С. 136.

130. Schuurman W. Investigation of a low pressure Penning discharge. // Phys.- 1967. V. 36. -№ 1. — P. 136−160.

131. Рейхрудель Э. М., Смирницкая Г. В., Егиазарян Г. А. Диаграмма состояний разряда с осциллирующими электронами // Журн. техн. физ. 1973. -Т. 43. -Вып. 1, — С. 130−134.

132. Рейхрудель Э. М., Смирницкая Г. В., Мавлянов А. Н. Измерение компонентов тока на катод в разряде с осциллирующими электронами // Вестник Московского Университета. 1969. — № 5. — С. 49−56.

133. Рейхрудель Э. М., Смирницкая Г. В., Мавлянов А. Н. Измерение коэффициента ионно-электронной эмиссии в разряде с осциллирующими электронами //Вестник Московского Университета. 1969. — № 6. — С. 46−52.

134. Крейндель Ю. Е. Электронный ток на выходе трубки типа Пеннинга // Журн. техн. физ. 1963. — Т. ЗЗ. -Вып.7. — С. 883−885.

135. Крейндель Ю. Е., Ионов А. С. Некоторые особенности разряда в трубках типа Пеннинга при низких давлениях // Журн. техн. физ. — 1964. Т. 34. -Вып.7. -С. 1199−1205.

136. Крейндель Ю. Е., Гутова Л. А., Шалай В. И. Об аномальном электронном токе в газоразрядных системах со скрещенными полями // Журн. техн. физ.- 1968. Т. 38. — Вып. 12. — С. 2042−2045.

137. Кервалишвили Н. А. Влияние ориентации анода на характеристики разряда низкого давления в поперечном магнитном поле // Журн. техн. физ. -1968. Т. 38. — Вып.4. — С. 637−645.

138. Кервалишвили Н. А. Неустойчивость в разряде низкого давления в поперечном магнитном поле /7 Журн. техн. физ. 1968. — Т. 38. — Вып.4. -С. 770−773.

139. Бархударов Э. М., Кервалишвили Н. А., Картхонджия В. П. Неустойчивость анодного слоя и электроны аномально большой энергии в разряде низкого давления в поперечном магнитном поле // Журн. техн. физ. 1972. — Т. 42-Вып.9. — С. 1904−1908.

140. Кервалишвили Н. А., Картхонджия В. П., О механизме разряда низкого давления в поперечном магнитном поле // Журн. техн. физ. 1973. — Т. 43. -Вып.9. — С. 1905−1909.

141. Кервалишвили Н. А., Картхонджия В. П., Особенности разряда низкого давления в Е1Н в полях в магнетроне и ячейке Пеннинга // Журн. техн. физ.- 1975. Т. 45. — Вып. 12. — С. 2557−2567.

142. Ре их руд ель Э.М., Смирницкая Г. В., Баберцян Р. П. О роли материала центральной части холодного катода в разряде типа Пеннинга // Радиотехника и электроника. 1966. — Т. 11. — № 11. — С. 2095−2098.

143. Гушенец В. И., Мартене В. Я. Исследование эмиссии электронов из отражательного разряда низкого давления // Повышение эффективности и качества устройств электронной техники. Томск, 1980. — С. 17−20.

144. Васильева Г. Г., Груздев В. А., Крейндель Ю. Е., Мартене В. Я. // Доклады науч. -техн. конф., посвященной 25-летию радиотехнического факультета.- Томск, ТИАСУР, 1976. 4.1. — С. 81.

145. Иванова Т. И., Пустовалов Г. Е., Рейх руд ель Э. М. Решение уравнения Лапласса в разрядном промежутке Пеннинга // Журн. техн. физ. 1966. — Т. 36.- Вып.5. С. 907−910.

146. Смирницкая Г. В., Баберцян Р. П. О кинетике положительных ионов в разряде типа Пеннинга // Журн. техн. физ. 1966. — Т. 36. — Вып.7. — С. 1217−1220.

147. Knauer W. Mechanism of the Penning discharge at low pressure // J. Apple. Phys. 1962. — V. 33. — № 6. — P. 2093−2099.

148. Рудницкий E.M. Распределения плотности ионного тока по катоду в разряде Пеннинга // Журн. техн. физ. 1967. — Т. 37. — Вып.5. — С. 927−931.

149. А.С. 791 102 СССР / В. А. Груздев, В. И. Гушенец. Заявл. 02. 07. 79.

150. Григорьев Ю. В., Лучников А. П., Степанов А. В. Применение стандартных алюминиевых фольг для выпуска электронных потоков в атмосферу /У

151. Современные материалы радиоэлектроники. М., МИРЭА, 1981. — С. 115−119.

152. А.С. 988 113 СССР / В. А. Груздев, В. Я. Мартене, В. Я. Съедин. За-явл. 16. 03. 81.

153. Бурачевский Ю. А., Касаткин А. Б., Мартене В. Я. // Тез. докл. V Все-союз. симп. по ненакаливаемым катодам. Томск, 1985. — С. 162−164.

154. А.С. 1 168 012 СССР / В. А. Груздев, Ю. А. Бурачевский, В. Я. Мартене. -Заявл. 19. 12. 83.

155. А.С. 1 701 053 СССР / Ю. А. Бурачевский, В. Я. Мартене, О. Е. Троян. -Заявл. 5. 06. 89.

156. АС. 1 766 202 СССР /' Ю. А. Бурачевский, В. Я. Мартене. Заявл. 29. 12. 90.

157. Мартене В. Я. Инициирование объемного разряда низкого давления в плазменном источнике электронов с ленточным пучком // Журн. техн. физ. -1999. Т. 69. — Вып.7. — С. 135−137.

158. Мартене В. Я. Экспериментальное исследование разряда низкого давления с клинообразным полым катодом // Тез. докл. XXVII науч. -техн. конф. Ставропольского госуд. техн. университета. Ставрополь, 1997. — T.l. — С. ЗО.

159. Крейндель Ю. Е., Мартене В. Я., Съедин В. Я., Гавринцев С. В. Электронная пушка непрерывного действия с плазменным катодом большой площади // Приборы и техн. эксперим. 1982. — № 4. — С. 178−180.

160. Будишевский B.C., Мартене В. Я., Проскуровский Д. И. Влияние уменьшения площади эмиссии на параметры плазме""ог ?большой площади // Тез. докл. IX Симп. по сильноточной электронике. Екатеринбург, 1992. — С. 44−45.

161. Kreindel Yu.E., Martens V. Ya, Budishevsky V.S. An electron-beam heater with a broad-area plasma-cathode // Proc. Int. Conf. On Energy Pulse Modification of Semiconductors and related materials. Germany, Dresden, 1984.

162. Бурачевский Ю. А., Мартене В. Я. Формирование ленточного электронного пучка с помощью плазменного эмиттера // Тез. докл. VIII Всесоюз. симп. по сильноточной электронике. Свердловск, 1990. — 4.1.- С. 131−133.

163. Абраизов М. Г., Каплин В. А., Мартене В. Я. Ионное облучение тонких пленок резистивных сплавов кремния // Электронная обработка материалов. -1981. № 2. — С. 38−41.

164. Мартене В. Я., Попов А. А. Ионный эмиттер на основе объемного разряда с холодными электродами // Тез. докл. VII Всесоюз. симп. по сильноточной электронике. Томск, 1988. — 4.1. — С. 107−109.

165. Мартене В. Я., Белюк С. И., Посохов В. Н. Источник газовых ионов непрерывного действия с пучком большого сечения // Приборы и техн. экспе-рим. 1992. — № 2. — С. 194−196.

166. Будешевская В. Н., Кагадей В. А., Мартене В. Я., Янкелевич Е. Б. Без-резистовая литография на пленках двуокиси кремния методом высокодозовой имплантации ионами азота // Электронная промышленность. 1990. — Вып.8. -С. 38−40.

167. Антонов В. И., Зибров И. П., Лигачев А. Е., Мартене В. Я., Митин Б. С.

168. Исследование процесса вакуумной дегазации порошковых материалов в процессе спекания в условиях электронного нагрева // Труды Между нар. конф. по электроннолучевым технологиям. Болгария, Варна, 1985. — С. 297−302.

169. Гавринцев С. В., Кокшаров В. П., Богатов B. JI. Установка с плазменным источником электронов для пайки в вакууме электронным потоком большого сечения. // Источники электронов с плазменным эмиттером. Новосибирск, Наука, 1983. — С. 96−99.

170. Greenwald А.С., Kirkpatrick A.R., Little R.G. a.o. Pulsed-electron-beam annealing of ion-implantation damage // J. Appl. Phys. 1979. — V. 50. — № 2. -P. 783−787.

171. Коваль Б. А., Месяц Г .А., Озур Г. Е. и др. Генерация сильноточных наносекундных низкоэнергетичных электронных пучков // Письма в Журн. техн. физ. 1981. -Т.7. -№ 20. — С. 1227−1230.

172. Knapp J.A., Picraux S.T. A line-source electron beam annealing system // J. Appl. Phys. 1982. — V. 53. — № 3. — P. 1492−1498.

173. Lanno N.J., Verdeyen J.T., Chan S.S. a.o. Plasma annealing of ion implanted semiconductors // Appl. Phys. Lett. 1981. — V. 39. — № 8. — P. 622−624.

174. Крейндель Ю. Е., Лебедева Н. И., Мартене В. Я., Месяц Г. А., Проску-ровский Д. И. Отжиг полупроводников низкоэнергетичным электронным пучком большого сечения секундной длительности // Письма в Журн. техн. физ. -1982. Т.8. — № 23. — С. 1465−1468.

175. Пантелеев Ю. К., Месяц Г. А., Азиков Б. С., Лебедева Н. И., Ардышев В. М. Импульсный отжиг ионно-легированных слоев арсенида галлия п-типа /7с

176. Тез. докл. Всесоюз. конф. по физике соединения, А В. Новосибирск, 1981.1. С. 70−71.

177. Белюк С. И., Будишевский B.C., Крейндель Ю. Е., Мартене В. Я., Про-скуровский Д.И., Янкелевич Е. Б. Электронная техника. Сер.7. (Технология, организация производства и оборудование). 1988. — Вып. 4(149). — С. 64−68.

178. А.С. 1 126 122 СССР / М. Г. Абраизов, М. Г. Гольдинер, Ч. Т. Канцер, В. А. Каплин, В. Я. Мартене, Н. И. Речештер. Заявл. 18. 11. 80.

179. Абраизов М. Г., Канцер Ч. Т., Каплин В. А., Мартене В. Я., Речештер Н. И. Ионное облучение резистивных пленок // Тез. докл. III Всесоюз. конф. по применению электронно-ионной технологии в народном хозяйстве. Тбилиси, 1981. -С. 103−104.

180. Плешивцев Н. В. Катодное распыление. М.: Атомиздат, 1968. 430 с.

181. Yankelevich Е.В., Budishevsky V.S. A system for complex processing of semiconductor structures in vacuum // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. 1991. -B55. -P. 880−883.

182. Метель А. С. Расширение рабочего диапазона давлений тлеющего разряда с полым катодом // Журн. техн. физ. 1984. — Т. 54. — Вып.2. — С. 241−247.

183. Жаринов А. В., Коваленко Ю. А. К теории Электронных коллекторов в газовом разряде // Журн. техн. физ. 1986. — Т. 56. — Вып.4. — С. 681−686. 223

Заполнить форму текущей работой